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半导体设备MOCVD热场解决方案
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参数
金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition，简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分，它能否快速、均匀的加热衬底，直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性，以及芯片的性能。铼因拥有10年MOCVD用铼加热器专业制作技术经验及完善的品控管理体系，是替代MOCVD用铼加热器进口大牌或原厂配件，能够进行OEM全工序代工代制，最具技术开发实力和品质保障能力的国内头号厂家。
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