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铼靶
铼靶
铼靶
铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势，作为一项已经发展得较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。
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MOCVD铼外圈
MOCVD铼外圈
MOCVD铼外圈
加工方式：非标准件按客户图纸加工;提供标准配件K465i、K700、A7;提供产品修补服务。
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MOCVD铼内圈
MOCVD铼内圈
MOCVD铼内圈
加工方式：非标准件按客户图纸加工；提供标准配件K465i、K700、A7；提供产品修补服务。
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铼坩埚
铼坩埚
铼坩埚
规格尺寸：壁厚3~6mm,纯度Re≥99.99%，密度≥18.8g/cm³，形状、尺寸接受定制。
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焊接铼管
焊接铼管
焊接铼管
非标准件按客户图纸加工；提供标准配件K465i、K700、A7；提供产品修补服务。
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