铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势，作为一项已经发展得较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。

铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势，作为一项已经发展得较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。

湖南铼因采用本企业生产的高纯金属铼粉可为用户专业生产加工各种规格溅射靶材，纯度高、密度高、致密均匀、晶粒细，具有优良导热性，从而保证靶材的高效率和高利用率。

规格：纯度Re≥99.99%~99.999%，形状、尺寸、密度接受各种定制产品。

• 铼溅射靶
• 溅射铼靶
• 磁控溅射镀膜铼靶