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光电材料事业部

光电材料事业部

  • 分类:铼材应用
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2021-03-08 16:28
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【概要描述】铼因依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。

光电材料事业部

【概要描述】铼因依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。

  • 分类:铼材应用
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01

 

光电材料事业部简介

 

近年来,随着信息技术的飞速发展,对半导体材料的要求越来越高,需求量也越来越多,铼因依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。

真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。铼因稀材生产供应各类形态的优质高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到最佳镀膜品质。

金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分,它能否快速、均匀的加热衬底,直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性,以及芯片的性能。铼因拥有10年MOCVD用铼加热器专业制作技术经验及完善的品控管理体系,是替代MOCVD用铼加热器进口大牌或原厂配件,能够进行OEM全工序代工代制,最具技术开发实力和品质保障能力的国内头号厂家。

 

联系方式

负责人:张经理

电话:18608419172

邮箱:sales@rheniumet.com


光电事业部提供哪些服务?

 

1、光电行业提供真空镀膜耗材解决方案

真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。铼因稀材生产供应各类形态的高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到好的镀膜品质。

 

2、半导体设备MOCVD热场解决方案

半导体、微电子行业芯片散热(热管理)材料,其它大功率集成电路,微波射频,高压电,核能,医疗设备等众多应用场合电热传导解决方案。当下以及未来,电子元器件的微型化及多功能化对器件的散热性提出了更高要求。


光电事业部提供哪些产品?

 

经过多年的沉淀,铼因已形成了以稀贵金属为主的靶材及蒸镀材料产品系列,主要包含铼靶、钼铼靶、锇铼靶、钛铼靶等。

在LED芯片外延领域,铼因与MOCVD厂家联合研发了能替代进口的铼加热部件,产品已在行业内占据较大的市场份额。

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