光电材料事业部简介

近年来，随着信息技术的飞速发展，对半导体材料的要求越来越高，需求量也越来越多，铼因依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验，成立了光电材料事业部，主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。

真空镀膜有三种形式：蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀，是目前以物理气相沉积法（PVD）方式实现膜生长的主流技术。铼因稀材生产供应各类形态的优质高纯金属蒸发料、溅射靶材，确保用户得到最佳镀膜品质。

金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition，简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分，它能否快速、均匀的加热衬底，直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性，以及芯片的性能。铼因拥有10年MOCVD用铼加热器专业制作技术经验及完善的品控管理体系，是替代MOCVD用铼加热器进口大牌或原厂配件，能够进行OEM全工序代工代制，最具技术开发实力和品质保障能力的国内头号厂家。

联系方式

负责人：张经理

电话：18608419172

邮箱：sales@rheniumet.com

光电事业部提供哪些服务？

1、光电行业提供真空镀膜耗材解决方案

真空镀膜有三种形式：蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀，是目前以物理气相沉积法（PVD）方式实现膜生长的主流技术。铼因稀材生产供应各类形态的高纯金属蒸发料、溅射靶材，确保用户得到好的镀膜品质。

2、半导体设备MOCVD热场解决方案

半导体、微电子行业芯片散热（热管理）材料，其它大功率集成电路，微波射频，高压电，核能，医疗设备等众多应用场合电热传导解决方案。当下以及未来，电子元器件的微型化及多功能化对器件的散热性提出了更高要求。

光电事业部提供哪些产品?

经过多年的沉淀，铼因已形成了以稀贵金属为主的靶材及蒸镀材料产品系列，主要包含铼靶、钼铼靶、锇铼靶、钛铼靶等。

在LED芯片外延领域，铼因与MOCVD厂家联合研发了能替代进口的铼加热部件，产品已在行业内占据较大的市场份额。